Россия планирует завершить создание литографа на 130 нм в 2026 году

В следующем году Россия намерена закончить разработку литографической установки, предназначенной для формирования рисунка на микрочипах, с разрешением 130 нанометров. Об этом заявил замминистра промышленности и торговли РФ Василий Шпак.

Литография играет ключевую роль в микроэлектронике, позволяя создавать миниатюрные структуры на полупроводниковых материалах, из которых изготавливаются микросхемы. Эта технология незаменима для производства, например, микропроцессоров.

«На 2026 год запланировано завершение работы над литографом с параметром 130 нанометров. Развитие будет постепенным», - отметил Шпак в интервью радиостанции РБК.

Он напомнил о создании первого российского литографа с разрешением 350 нанометров в сотрудничестве с Беларусью. Ожидается, что поставки этого оборудования на российские заводы стартуют в 2026 году. А уже к 2028 году отечественные специалисты планируют освоить производство собственных чипов с технологическим процессом 28 нанометров.

Необходимо также обратить внимание на тот факт, что в современном мире чипы размером 350 нанометров уже считаются большеразмерными, но, несмотря на это, они продолжают использоваться во многих отраслях экономики, в том числе в автомобильной промышленности, энергетике и телекоммуникациях.

Текущая международная обстановка подталкивает Россию к активному развитию технологической независимости. Именно эти соображения лежат в основе государственной поддержки подобных разработок.